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和田日光温室不同基质栽培模式比较试验

文献类型： 中文期刊

作者： 陶帅;杜红斌;杨云清;史大炜;管振立;尹俊伟

作者机构：

关键词： 黄瓜;基质栽培;温度;产量;和田

期刊名称：农业科技通讯

ISSN： 1000-6400

年卷期： 2024 年 4 期

页码：

收录情况： 无来源刊（2024版）

摘要： 为探究夏季和田日光温室不同栽培模式对黄瓜根系温度和产量的影响,本研究对沟槽覆膜黄沙栽培、沟槽草炭栽培、沟槽珍珠岩栽培、沟槽花盆栽培等4种不同的栽培模式进行对比试验。结果表明,4种栽培模式根系温度均在21.4~29.7℃之间,4种栽培模式日平均土壤温度为23.5~25.0℃,棚温最高温度为36.2℃,最低温度为21.8℃,日平均空气温度为27.8℃；沟槽草炭栽培方式黄瓜的产量和总糖含量均最高。因此,沟槽草炭栽培模式适合和田地区日光温室夏季黄瓜栽培,该栽培模式省工且水肥管理简便,草炭消毒后可反复使用,降低基质的浪费,在和田地区日光温室有较好的应用前景。

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